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第三百一十四章 弯道超车(2/5)

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“大概率是用的浸润法,也就是在镜头和硅片之间加液体,他们光刻机条线的负责人是林本坚博士,他一直坚持浸润法是半导体工艺突破的关键。

只是不知道他们是如何绕过浸润法的困难。”佐藤博人说,他是EUVA在御殿场市的研发团队的负责人。

在光刻机失利后,佐藤博人同样经历了很长一段时间的失落和沉寂,和小松正志比起来,他最后还是走出来了,甚至换了个研究方向重新活跃在学术界。

此时意气风发指点新芯光刻机技术的他们,不会知道这个未来对霓虹的光刻机产业只会更加残酷。

尼康和佳能这次连残羹冷炙都吃不到了。

“我也好奇,因为新芯最早是买的我们的光刻机技术,他们如果要采用浸润法的话,需要完全重新构建整个物镜光路。

这可不是一个小工作。

这需要耗费大量的人力物力。”小松正志说。

作为光源制造商,他很清楚,尼康的技术关键,要想采用浸润式有太多困难了。

最大的困难就是物镜光路的改造,尼康的技术最后一块物镜是曲面的,曲面镜片和浸润式存在天然的不兼容。

而ASML的193nm光刻机最后一片镜片是平的,ASML的物镜系统可以无缝对接浸没式系统。

佐藤博人说:“我每次在IEEE的光学大会上和林博士聊,他对光刻机领域如何利用光源非常精通。

想必在他主导下,加上新芯的人才储备和资源投入,重构整个物镜光路是完全可行的技术路线。”

“不,不是因为林,新芯能改造我们的物镜光路,是因为有蔡司的全力支持。”杰夫·怀特说,他是尼康新上任的CEO,不知道什么时候坐到了佐藤和小松正志的旁边。

小松正志和佐藤博人都连忙和杰夫·怀特打招呼。

简单的寒暄后,杰夫·怀特说:“虽然不想承认,但是新芯在光刻机领域的研发速度远超我们的预计。

其中新芯自身从尼康、佳能挖走大量研发人员是原因之一,他们获得了蔡司的全力配合是更重要的原因。

对于一套新的光学通路来说,没有蔡司的配合,新芯无论如何也没有办法在短短两年时间做到重构整个物镜光路。”

杰夫·怀特很无奈,当年尼康做出把技术卖给新芯的时候他还不是尼康的CEO,后来复盘的时候他想过,如果当时他是新芯的CEO是一定不会把技术卖给新芯的。

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