第111章 两种可能,你信哪种？（2/5）

“光刻机？我没听错吧？你是说那个数学小子发给我们的论文是关于如何制造光刻机的？”

“是的，你完全没有听错，就是关于光刻机的！我不知道该如何形容，但怎么说呢，他的论文在表述上有些含糊，我也发给了一些专家，但这篇论文真的很奇怪……”

布尔有些奇怪的看着自己这位得力副手。

因为这番话显然听起来很没有条理。

很难想象一位严谨的顶级期刊副主编，在做简单表述时，会显得逻辑上有些混乱。

“好了，我知道了，康妮，我建议你先放松一下，不如先去喝杯咖啡？等我先大概把论文看一遍再聊吧。如果你找不到更适合的审稿人，我会想办法的。你知道的，斯坦福大学可是有很多团队在进行相关的研究，比如学院里的高密度弹性电路单片光学微光刻技术，他们肯定会对这篇论文感兴趣。”

布尔·威尔逊直接打断了副主编康妮的话。

“好的，威尔逊先生，那你还是先看论文吧。”

说完，康妮直接扭身走出了主编室。

目送着副主编离开后，布尔才从电脑中调出了乔泽的这篇论文，沉下心开始读了起来。

花费了两个小时，认真的读完了乔泽的论文后，布尔·威尔逊大概明白为什么副主编会失态了。

这论文给他的感觉大概就是，谁看谁都得懵。

照着论文中的遣词造句，说这只是一篇纯粹理论推导的论文吧，偏偏论文给出了很详实的数据做支撑，那一组组数据的确就像实验室里拿出来的一样。还有对这些数据的分析，真的太详实了。

最重要的是，如果这还只是停留在纸面上的机器，谁会无聊到去为一个根本还没有造出实体的机器去开发一套适配的控制系统？

要知道同时控制28束光的控制系统对于稳定性跟精度的要求近乎都是变态级的。

就好像阿斯麦最先进的极紫外光刻机，首先要将高功率二氧化碳激光脉冲经过几面绝对平整的镜片反射后，照射到一个直径仅仅只有30微米的锡滴液靶材上，然后激发出高功率的纳米等离子体，并依靠这些等离子体产生波长为纳米的euv光源对晶圆进行曝光雕刻。

其控制单元对于精度要求之高可见一斑。